PVD离子镀膜设备替代传统氮化钛（TiN）离子镀技术的新一代耐磨蚀镀层技术装备。它采用低压离子枪辅助加强的非平衡磁控溅射技术，能镀制氮化铝钛（TiAlN），碳氮化钛（TiCN），氮化铬（CrN），氮化钛（TiN），氮化锆（ZrN）及类金刚石等超硬镀层。通过采用新的复合镀层原理和精确的工件转动结构，能保证同炉镀制出上述膜系的3种成分的多层（纳米级）复合镀层。研制成功的新的工模具镀层技术，可按工模具实际使用条件进行综合膜系设计。多成分复合镀层比单一成份镀层具有更好的耐磨耐蚀性能，其寿命和加工效率均可比单一镀层高。
PVD离子镀膜机技术性能：
镀膜室：壳体为不锈钢，水冷。
内腔尺寸：Φ750×H 650 mm.
真空系统：分子泵F—250，1500 L／Sec
机械泵2X—30，30 L／Sec
极限真空度：≤7×10-4Pa
恢复真空：大气——7×10-3Pa≤30min
工件转动：卧式，公自转，公转4～10转／min
工件架尺寸：Φ500×350 mm
可装工件数量：70×14×10 mm工件50件以上。
非平衡磁控靶：2个
靶电源：2个，0～600V／15A.
低压离子枪：1个，0～60V／180A.
低压离子枪电源：1个
偏压电源：1个，0～600V／20A.
等离子清洗：由低压离子枪进行清洗。
工件加热：由低压离子枪加热，或附加加热器进行加热。
由热电偶测量温度。
可镀膜的成份：TiAlN，TiCN，CrN，ZrN，TiN，类金刚石等。
充气系统：由3路质量流量控制器（MFC）分别对1路Ar，1路N2，1路C2H2进行控制。
加工控制：手动。［另可根据需要采用计算机和PLC作半自动或自动控制。］
供电电源：3N-220／380V±10％，50HZ，保护地线，耗电≈30KW.
冷却水：压力≥2Kg／cm2，耗水量约5T／hr.