用途：
该X射线晶体分析仪，主要用于研究物质内部微观结构。如：单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。
主要参数：
电 源：AC220V 50HZ 3A
功 率：2KW
靶 材：Cu（可选其他靶材）
管电压：50KV（分档可调）
管电流：50mA（分档可调）
稳定度：±1%
冷 却：循环水、制冷水箱
防 护：铅有机玻璃防护罩
相 机：
a)德拜相机（粉沫相机）大、小两种
b)劳厄相机（平板相机）
上述两种相机，用户可自选配置
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